中信证券预计，至少以下三方面的技术趋势将推动刻蚀设备的用量和重要性提升：1.光刻多重图案化路线的采用；2.三维堆叠存储和近存计算需求；3.底层晶体管结构升级。长期看，半导体设备国产化方向明确，短期来看，下游扩产有望驱动行业进入新一轮增长期。建议关注国内刻蚀设备厂商以及相关配套设备、零部件企业机会。
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